题名:表面分析 (XPS和AES) 引论
作者:原著 (英) John F. Watts, John Wolstenholme
出版年:2008
ISBN: 978-7-5628-2226-4
分类号: O656.9
中图分类: 其他分析
译者: 吴正龙
定价: 28.00元
页数: 144 页
出版社: 华东理工大

《表面分析(XPS和AES)引论》讲述了现代电子能谱中的单色化XPS、小面积。XPS(SAXPS)、成像XPS、XPS深度剖析、场发射AES/SAM等功能的分析技术,以及在冶金、腐蚀、陶瓷、催化剂、微电子半导体材料、黏合剂、涂料聚合物材料等领域中的应用;介绍了现代电子能谱仪中的微聚焦单色器、场发射体、离子枪、电子枪、能量分析器/传输透镜、荷电补偿器、多通道探测器、平行成像系统、平行数据采集、数据处理系统等等。书中将XPS和.AES技术与其他表面分析技术作了比较。书后附有参考文献、中英文电子能谱分析技术名词术语、网络资源等一些有用的信息。