题名:硅技术的发展和未来
作者:(法) P. 希弗特, (德) E. 克瑞梅尔编著
出版年:2009
ISBN: 978-7-5024-4536-2
分类号: TQ127.2
中图分类: 硅及其无机化合物
译者: 屠海令
定价: 50.00元
页数: 480 页

《硅技术的发展和未来》涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、品格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念;系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。其内容广泛,数据详实,可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。